Definition, Bedeutung

wird auch CVD (Chemical Vapour Deposition) genannt, und besteht aus dem Beschichten von Materialien mit einer äußerst abreibungsfesten Schicht aus Titancarbiden (TiC), oder Titannitriden (TiN). Ein 2-10 Mikrometer starker Film wird in einem Reaktorgefäß bei Temperaturen zwischen 800 und 1050°C aufgedampft. Es gibt mehrere Varianten, wie Chrom- und Wolframcarbide, Nitride oder Boride. Oft lässt sich das Härten mit der CVD-Behandlung kombinieren, bei der gewöhnlich lufthärtender Stahl angewandt wird. Beim PVD-Verfahren (= Physical Vapour Deposition) wird bei niedrigeren Temperaturen zwischen 250 und 500°C aufgedampft. Die Schichtstärke beträgt 2-5 Mikrometer. Dieses Verfahren wird häufig zur Beschichtung von Bohrern, Fräsern und Reibahlen eingesetzt, die meistens vorher gehärtet, werden.